一個(gè)中國(guó)團(tuán)隊(duì)最近在《納米快報(bào)》上發(fā)表了一篇研究論文，描述了一種新型的5 nm超高精度激光光刻處理方法。

這項(xiàng)研究是由中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所的研究員張紫陽(yáng)與國(guó)家納米中心的研究員劉謙合作進(jìn)行的。

該團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)并開(kāi)發(fā)了一種新的三層堆疊薄膜結(jié)構(gòu)。對(duì)于無(wú)機(jī)鈦膜光刻膠，他們采用了雙激光束交叉堆疊技術(shù)。通過(guò)精確控制能量密度和步長(zhǎng)，它們突破了1/55衍射極限，達(dá)到了5 nm的最小特征線寬。

研究團(tuán)隊(duì)使用這種超分辨率激光直接寫(xiě)入技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制造。

值得一提的是，研究團(tuán)隊(duì)已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種完全智能化的激光直寫(xiě)設(shè)備，該設(shè)備利用了激光和材料的非線性特性。這與縮短激光波長(zhǎng)或增加數(shù)值孔徑的傳統(tǒng)技術(shù)途徑不同。

這打破了傳統(tǒng)激光直接寫(xiě)入技術(shù)中受體材料是有機(jī)光刻膠的限制。它可以使用多種接收器材料，大大擴(kuò)展了激光直寫(xiě)場(chǎng)景的應(yīng)用。